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G2+ 213nm激光剥蚀 固态激光剥蚀系统

简要描述:LSX-213nm激光剥蚀 G2+ 固态激光剥蚀系统使用的高性能硬件及高精度光学部件,带来效果优异的光学分辨率,达到清晰观察效果的同时并具有宽泛的视野,配备高质量、多阵列和亮度可调的透射照明和反射照明系统,确保在极大放大倍数下也能清晰观察样品。

  • 产品型号:LSX-213
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-12-08
  • 访  问  量: 236

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详细介绍

激光剥蚀/激光烧蚀产品线源于全球行业之一的Photon Machines团队(缩写PMI),其第一代产品于1995年问世,该品牌具有丰富的激光剥蚀产品设计、研发、制造及应用经验,产品线涉及213nm固态激光、193nm准分子激光、飞秒激光系统(与ICP-MS联用),及CO2和二极管激光熔融系统(与惰性气体同位素质谱联用),此外多种高性能配件与更加直观的分析软件能够增强并完善系统的功能,足以为全球元素分析用户提供先进的激光剥蚀技术。


LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统产品特点:

LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统内置性能良好密闭的泵浦灯和MIL-SPEC标准设计制造的激光源,给操作者带来非常稳定的激光能量和低维护成本,配备了高精度独立减震光学平台后,系统能够在多种苛刻环境中进行多种样品分析。

LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光学部件,带来效果优异的光学分辨率,达到清晰观察效果的同时并具有宽泛的视野,配备高质量、多阵列和亮度可调的透射照明和反射照明系统,确保在极大放大倍数下也能清晰观察样品。

LSX-213 G2+ 采用开放式样品池位置设计,能够兼容多种样品池,并支持用户定制样品池。软件方面可以控制内置光圈自动切换,剥蚀斑点直径范围4-200μm,系统通过与ICP通讯实时调整能量、斑点大小和扫描速度等参数。 简洁实用的结构设计,不仅提供了稳定的性能,同时具有良好的易维护性,为您提供便利高效的工作过程,实现定点——剥蚀——分析的三步目标。


213nm激光剥蚀,固态激光剥蚀

213nm激光剥蚀,固态激光剥蚀

 



LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统技术参数:

  • 五倍频213nm Q-switched控制的Nd:YAG固态激光源,脉冲能量≥6mJ,脉冲宽度≤4ns

  • 脉冲稳定性<3%

  • 平顶激光技术,达到良好的剥蚀坑

  • 激光光路和观察光路独立设计,防止机械震动干扰和热源干扰,具有非常高的稳定性

  • 脉冲频率1-20Hz可调,输出能量1-100%可调

  • 剥蚀斑点范围4-200μm

  • 密闭且易维护的激光源设计

  • 计算机控制,连续调节的等焦面共焦点设计,显微光学放大倍数15-60x

  • 观察视野>6mm(光学分辨率<2μm)

  • 高强度LED阵列照明系统

  • 电动旋转偏振系统

  • 开放式样品池位置设计,灵活性高

  • 多种样品池可选,兼容HelEx II双体积双气路涡流样品池

  • XY平台步进分辨率0.16μm


LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统应用领域:

环境样品分析,物证样品分析,农产品样品分析,同位素定性分析,生物样品分析,大体积进样定量分析,地质样品分析,样品缺陷分析,元素分布图绘制分析,透明和半透明样品分析,深度剥蚀分析。

 

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