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膜去溶雾化系统

简要描述:Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,废液反抽技术进一步提高了稳定性。

  • 产品型号:Aridus3
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-12-08
  • 访  问  量: 963

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Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,废液反抽技术进一步提高了稳定性。


Aridus3 膜去溶雾化系统技术参数:

可移动的模块化膜去溶设计,拆装和清洗方便

带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰

特有膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平

大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇)

提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上

采用质量流量控制器(MFC)精准控制气体流量

可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速

实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本



 

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